气相沉积炉的特点是什么 　　气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 　　设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 　　下面小编详细列举几条炉子的特点，以便大家能更好的了解炉子的性能。 　　气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；并且，采用多温区独立控温，温度均匀性好； 　　与此同时采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强； 　　气相沉积炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好； 　　气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。

　　真空甩带炉的工艺性能 　　真空甩带炉主要用于各种金属材料在真空或气氛保护条件下的感应熔炼及快冷甩带成型;适合各种材料的非晶、微晶薄带或薄片的制备。 　　实验型采用冷滚旋淬法制备薄片或薄带非晶材料。采用喷铸法制备块状或棒状合金试样，可用于制备大块非晶材料。真空甩带炉主要由真空腔体、熔炼装置、喷铸装置、甩带装置、抽真空系统、炉体支架、电气控制系统、水冷却系统等组成。 　　真空甩带炉采用卧式炉体，侧部开门结构，进出料方便，炉体结构紧凑，占地空间较小，采用高频电源加热，主要供大专院校及科研单位等在真空或保护气氛条件下对金属材料(如不锈钢、镍基合金、铜、合金钢、镍钴合金、稀土钕铁錋等)的熔炼浇铸处理，也可进行合金钢的真空精炼处理及精密铸造。还可进行非晶甩带，喷铸和压铸处理，一台设备多种功能。 　　此外，真空甩带炉是在抽完真空并充氢气的保护状态下，利用中频感应的加热原理，使处于线圈内的钨坩埚产生了高温，再通过热辐射传导到工作上，适用于科研、及军工单位对难熔合金如钨、钼以及其它合金的粉末成型烧结。在真空保护的条件下，利用中频感应加热的原理使硬质合金刀头及各种金属粉末压制体实现烧结的成套设备，是为硬质合金、金属镝、陶瓷材料的工业行业而生产设计的。 　　洛阳八佳电气科技股份有限公司主要研发、生产真空熔炼炉、真空烧结炉、熔盐电解炉等烧结设备，公司高度重视技术创新和高科技产品的开发，每年将销售收入的10%以上投入研发。在人才引进、外出进修、购置先进生产设备中也不惜投入大量资金。目前，企业拥有20多项发明和实用新型专利技术。真诚欢迎新老客户莅临公司指导合作、洽谈业务!