真空烧结炉使用时要注意哪些 　　真空烧结炉是在抽真空后充氢气保护状态下，利用中频感应加热的原理，使处于线圈内的钨坩埚产生高温，通过热辐射传导到工作上，适用于科研、军工单位对难熔合金如钨、钼及其合金的粉末成型烧结。安装电炉的场所应符合真空卫生的要求，周围的空气应清洁和干燥，并有良好的通风条件，工作场地不易扬起灰尘等。使用时我们应该知道哪些事项? 　　1、检查真空烧结炉控制柜中所有部件及配件是否完备、完好。 　　2、控制柜安装在相应的地基上，并固定。 　　3、安照接线图，并参考真空烧结炉原理图，接通外接主回路及控制回路，并可靠接地，保证接线无误。 　　4、检查电器可动部分应活动自如，无卡死现象。 　　5、绝缘电阻应不低于2兆欧姆。真空烧结炉各阀门须在关闭位置。控制电源开关放在关位。 　　6、手动调压旋钮逆时针旋动头。 　　7、报警钮放在开位。 　　按平面图完成设备的循环冷却水联接，建议用户在真空烧结炉总进出水管处再接入一备用水(可用自来水)，防止循环水有故障或断电导致密封圈烧坏。

　　气相沉积炉的特点是什么 　　气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 　　设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 　　下面小编详细列举几条炉子的特点，以便大家能更好的了解炉子的性能。 　　气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；并且，采用多温区独立控温，温度均匀性好； 　　与此同时采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强； 　　气相沉积炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好； 　　气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。