实验室用的真空甩带炉参数介绍 　　实验室用的真空甩带炉是专为大学研究所研发设计的用于非晶材料制备的专用实验仪器。它是用来制备和开发亚稳材料(如非晶态材料)的专用设备，该设备除了具有感应炉的全部特点外，还具有制备块体金属非晶及金属薄带的功能,适用于各种非晶及微晶材料的研究及实验工作,，广泛用于新型稀土永磁材料非晶软磁材料及纳米材料科学的开发与研究。可选配喷铸功能。 　　下面是实验室用的真空甩带炉主要技术参数 　　1.样品大熔炼量：20g; 　　2.辊轮尺寸：φ200mmx40(不带水冷); 　　3.铜棍速度：1-3000r/min; 　　4.真空度：优于5x10-4Pa; 　　5.真空甩带炉熔炼电源功率：7KW; 　　6.熔炼温度：500℃-1700℃，满足绝大多数实验要求; 　　7.熔炼坩埚：氮化硼及石英; 　　8.条带宽度：1-10mm; 　　9.真空腔尺寸：300×300×480mm(L*W*H) 　　10.真空甩带炉尺寸：620*560*780m（L*W*H） 　　11.标配：主机及感应熔炼电源 　　12.真空熔炼炉桌面式设计，占地空间小，特别节约实验空间和能源

　　真空烧结炉工艺介绍 　　真空烧结炉是利用感应加热对被加热物品进行保护性烧结的炉子，可分为工频、中频、高频等类型，可以归属于它的子类。真空感应真空烧结炉是在真空或保护气氛条件下，利用中频感应加热的原理使硬质合金刀头及各种金属粉末压制体实现烧结的成套设备，是为硬质合金、金属镝、陶瓷材料的工业生产而设计的。 　　真空烧结炉采用石墨管或石墨棒(为发热元件，适用于金属材料，无机非金属材料，在真空或保护气氛下进行烧结适用，也可用于光学材料的烧结提纯适用。它的一体化设计，结构紧凑，外形美观，自带驸马论脚轮，移机搬迁方便快捷。采用底部电动升降，结构精巧，方便，移动平稳装卸料方便。采用触摸屏+plc控制方式，自动化程度高，操作直观，功能强大。 　　在触摸屏内可预存真空烧结炉的几十种烧结工艺，一次编辑，以后直接调用使用，省去多次编辑工艺的麻烦，避免输入错误，烧坏产品。烧结的温度，真空度，等数据可实时记录，也可随时启动停止记录，减少无用数据，数据可查询，可导出下载。烧结温度高，用钼丝发热体，可达1600℃。 　　同时，真空烧结炉自带水冷机，省去客户做水路工程的麻烦。如果您有需要此炉子的需要，欢迎电话咨询我们。